即時檢測

WAFER基板于研磨制程中的膜厚玻璃基板于減薄制程中的厚度變化(強酸環(huán)境中)

產(chǎn)品特色

非接觸式、非破壞性光學式膜厚檢測采用分光干涉法實現(xiàn)高度檢測再現(xiàn)性可進行高速的即時研磨檢測可穿越保護膜、觀景窗等中間層的檢測可對應長工作距離、且容易安裝于產(chǎn)線或者設備中體積小、省空間、設備安裝簡易可對應線上檢測的外部信號觸發(fā)需求采用*適合膜厚檢測的獨自解析演算法。(已取得磚利)可自動進行膜厚分布制圖(選配項目)

規(guī)格式樣

※1 隨光譜儀種類不同,厚度測量范圍不同※2 *小Φ6μm
日本OTSUKA
大塚相位差膜?光學材料檢查設備RETS-100 日本OTSUKA大塚相位差膜?光學材料檢查設備RETS-100 日本OTSUKA大冢相位差膜?光學材料檢查設備RETS-1江蘇蘇州南京太倉安徽蕪湖合肥浙江杭州常州常熟蘇州古尾谷有售強勢供應有技術支持
詳情介紹：
相位差膜?光學材料檢查設備　RETS-100
相位差膜?光學材料檢查設備 RETS-100對應范圍廣，從反射型?透過型type的已封入液晶的cell到帶有彩色濾光片的空cell都可對應
蘇州古尾谷電子有限公司 代理銷售  直供各類工業(yè)品  聯(lián)系人陳小姐15250013623
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產(chǎn)品信息
特　點
? 采用了偏光光學系和多通道分光檢出器
? 有可對應各種尺寸的裝置，從1mm大小的光學素子到第10代的大型基板
? **對策和粒子對策，可對應液晶line內(nèi)的檢查設備
測量項目
? 封入cell gap
? twist角
? rubbing角
? pretilt角［TN,IPS,FFS,MVA］
? 空cell gap
? 相位差（復折射相位差）的波長分散
? 光學軸
? 橢圓率/方位角
? 三次元折射率/Rth/β
? 分光光譜/色度
測量對象
? 液晶cell
-　透過、半透過型液晶cell（TFT、TN、STN、IPS、VA、OCB、強感應電）
-　反射型液晶cell（TFT、TN、IPS、VA）
? 光學材料
-　其他（相位差?橢圓?偏光膜、液晶材料）
仕　樣
型號
RETS series
樣品尺寸
20mm×20mm ～ *
cell gap測量范圍
0.1μm ～ 數(shù)10μm
cell gap重復性
±0.005μm
檢出器
多通道分光光度計
測量波長范圍
400nm ～ 800nm
光學系
    透過用偏光子unit
偏光光學系
    消光比 10-5內(nèi)置Gran-tomson prism（方解石）
    自動旋轉(zhuǎn)（角度精度0.1°）、自動裝卸機構(gòu)
測量口徑
φ2, φ5, φ10 (mm)
光軸傾斜機構(gòu)
-20 ～ 45°、-45 ～ 45°等
*　大型玻璃基板也可用（2000mm×2000mm以上）
測量案例
相位差與液晶層間隙值
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液晶面內(nèi)分布圖
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長期供應 大冢光學OTSUKA RETS-100 日本OTSUKA大冢相位差膜?光學材料檢查設備RETS-100     蘇州市新杉本電子科技有限公司/ 日本大冢OTSUKA 蘇州新杉本直銷/聯(lián)系人陳小姐15250013623
1、VR/AR硬件設備：顯示設備、輸入設備、數(shù)據(jù)設備、跟蹤設備、跟蹤系統(tǒng)、定位系統(tǒng)、其它跟蹤等；
2、VR/AR技術：立體顯示技術、環(huán)境建模技術、真實感實時繪制技術、三維虛擬聲音技術、視覺實時動態(tài)繪制技術、人機自然交互技術、傳感技術、物理仿真技術、三維全真技術、實時碰撞檢測技術等；
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11、智能化視覺設備：3D掃描、空氣成像、全息互動設備、霧屏、3D互動投影、人工智能、視覺創(chuàng)意服務、黑科技軟件、裸眼3D等；
12、數(shù)字展覽展示技術：多媒體系統(tǒng)與應用技術、3D全息幻影成像、智能中控系統(tǒng)、滑軌電視、沉浸式影院、液晶拼接屏等；
13、數(shù)字內(nèi)容展示：全息舞臺、演唱會解決方案、消

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