如果您對該產(chǎn)品感興趣的話,可以
產(chǎn)品名稱:
優(yōu)勢代理AMAYA天谷制作所 晶圓設備
產(chǎn)品型號:
AMAX1000S
產(chǎn)品展商:
日本AMAYA天谷制作所
折扣價格:
0.00 元
關注指數(shù):254
產(chǎn)品文檔:
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AMAYA株式會社天谷制作所AMAX1000S
常壓CVD裝置，準備了滿足顧客需求的產(chǎn)品陣容。同時，定做也對應。
對應于半導體制造用、太陽能電池制造用等各種用途。從少量生產(chǎn)到大量生產(chǎn)
形成SiO2、BPSG、BSG、PSG等各種膜種
采用SiC托盤防止重金屬污染，從低溫（200℃）到中溫（500℃）區(qū)域可以廣泛成膜
優(yōu)勢代理AMAYA天谷制作所 晶圓設備
的詳細介紹
日本AMAYA株式會社天谷制作所
連續(xù)常壓CVD設備，用于批量生產(chǎn)兼容125mm方形和156mm方形的太陽能電池
AMAX1000S
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156 毫米方形 1500 張/小時吞吐量
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采用SiC托盤防止重金屬污染的對策，以及通過改善托盤支架防止背面環(huán)繞的措施
特征
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可以使用滿足太陽能電池生產(chǎn)需求的超批量生產(chǎn)設備運輸156mm x 156mm方形基板和125mm x 125mm方形基板。
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我們開發(fā)了可實現(xiàn)批量生產(chǎn)的專用分散頭，以及實現(xiàn)超高速輸送的雙臂輸送機構。 此外，還增加了燈管加熱機構，以實現(xiàn)超高速和晶圓溫度均勻性。
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我們開發(fā)了一種特殊的晶圓支架，用于高效加熱太陽能電池的薄晶圓。
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卸料器部分使用多級Bernui卡盤來分離晶圓和托盤，并且還具有冷卻功能。
性能
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均勻的薄膜厚度
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≦±10.0%
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支持的晶圓尺寸
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156毫米方形，125毫米方形
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氣體種類
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SiH4，O 2， PH3， B 2 H6， N 2
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薄膜沉積溫度
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~430°C
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生產(chǎn)力
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1500張/小時
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主要規(guī)格
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設備尺寸
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1860毫米（寬） x 5900毫米（深） x 2100毫米（高）
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加熱機構
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電阻加熱和燈加熱
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裝載卸載
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裝載：卡盤，卸載：伯努利卡盤
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分散頭（氣體噴嘴）
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A63 長頭（標準 3 頭）
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